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納米真空均質機

納米真空均質機

產品型號: GR2000/4

所屬分類:納米均質機

更新時間:2025-12-14

簡要描述:納米真空均質機是由真空系統和均質機組成,一個真空罐體和管線式均質機相結合,真空罐內可以根據物料的粘稠度來配置相應的攪拌機(普通攪拌或者刮壁攪拌),小型真空罐有進料口、觀察窗、放空閥等。小型管線式均質機為GR2000/4高剪切均質機,是一款小試和中試的Z理想乳化設備,GR2000/4設備轉速高達9000rpm,三級工作頭,采用德國博格曼雙端面機械密封,乳化效果。

詳細說明:

納米真空均質機,真空均質機,小型均質機,研發用真空均質機小型均質機用于實驗室研發用,模擬工業化生產,為工業化生產提供可靠的試驗數據。


納米真空均質機是由真空系統和均質機組成,一個真空罐體和管線式均質機相結合,真空罐內可以根據物料的粘稠度來配置相應的攪拌機(普通攪拌或者刮壁攪拌),小型真空罐有進料口、觀察窗、放空閥等。小型管線式均質機GR2000/4高剪切均質機,是一款小試和中試的乳化設備,GR2000/4設備轉速高達9000rpm,三級工作頭,采用德國博格曼雙端面機械密封,乳化效果。

影響分散乳化結果的因素有以下幾點

1 乳化頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次好)

2 乳化頭的剪切速率 (越大,效果越好)

3 乳化頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)

4  物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)

5 循環次數(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)


均質機選型表

研磨分散機

流量

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD 2000/4

300

14,000

41

4

DN25/DN15

GMSD 2000/5

1500

10,500

41

11

DN40/DN32

GMSD 2000/10

4000

7,200

41

22

DN80/DN65

GMSD 2000/20

10000

4,900

41

45

DN80/DN65

GMSD 2000/30

20000

2,850

41

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

41

160

DN200/DN150

*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到最大允許量的10%。

思峻專業從事乳化設備的研發與生產,小型均質機在全國各著名高校以及研究所都有著廣泛的應用





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